Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd. 0086-13911110627 sale@optoedu.com

OPTO-EDU A63.7010 EBL Electron Beam Lithography Machine

Μηχανή λιθογραφίας δέσμης ηλεκτρονίων OPTO-EDU A63.7010 EBL

Επισημαίνω

Μηχανή λιθογραφίας ηλεκτρονικής ακτίνας EBL
,
μικροσκόπιο σάρωσης με ηλεκτρονική ακτίνα λιθογραφίας
,
Μηχανή λιθογραφίας OPTO-EDU A63.7010
Τυποποιημένος εξοπλισμός

Στάδιο συμβολόμετρου λέιζερ
Ταξίδι σε σκηνές

≤105 χλστ
Ανάλυση εικόνας

≤1nm@15kV; ≤1,5nm@1kV
Πυκνότητα ρεύματος δέσμης

>5300 A/cm2
Ελάχιστο μέγεθος κηλίδας δέσμης

≤2 nm
Κλείστρο δέσμης ηλεκτρονίων

Χρόνος ανόδου < 100 ns
Τόπος καταγωγής

Κίνα
Μάρκα

CNOEC, OPTO-EDU
Πιστοποίηση

CE,
Αριθμό μοντέλου

A63.7010
Έγγραφο

Βιβλίο του προϊόντος PDF
Ποσότητα παραγγελίας min

1 τεμ
Τιμή

FOB $1~1000, Depend on Order Quantity
Συσκευασία λεπτομέρειες

Συσκευασία χαρτοκιβωτίων, για τη μεταφορά εξαγωγής
Χρόνος παράδοσης

180 Ημέρες
Όροι πληρωμής

T/T, West Union, PayPal
Δυνατότητα προσφοράς

μήνας 5000 PC

Μηχανή λιθογραφίας δέσμης ηλεκτρονίων OPTO-EDU A63.7010 EBL

button button

Λάβετε τιμή Επικοινωνήστε

Προδιαγραφές Σταδίου
Βασικός Εξοπλισμός	Στάδιο με Οπτικό Παρεμβολόμετρο Λέιζερ
Διαδρομή Σταδίου	≤105 mm
Προδιαγραφές Ηλεκτρονικού Πυροβόλου και Απεικόνισης
Πυροβόλο Εκπομπής Πεδίου Schottky	Τάση Επιτάχυνσης 20V~ 30kV, Ανιχνευτής Δευτερογενών Ηλεκτρονίων Πλευρικός και Ενσωματωμένος Ανιχνευτής Ηλεκτρονίων
Ανάλυση Εικόνας	≤1nm@15kV; ≤1.5nm@1kV
Πυκνότητα Ρεύματος Δέσμης	>5300 A/cm2
Ελάχιστο Μέγεθος Σημείου Δέσμης	≤2 nm
Προδιαγραφές Λιθογραφίας
Κλείστρο Δέσμης Ηλεκτρονίων	Χρόνος Ανόδου < 100 ns
Πεδίο Εγγραφής	≤500x500 um
Ελάχιστο Πλάτος Γραμμής Μονής Έκθεσης	10±2nm
Ταχύτητα Σάρωσης	25 MHz/ 50 MHz
Παράμετροι Γεννήτριας Γραφικών
Πυρήνας Ελέγχου	FPGA Υψηλής Απόδοσης
Μέγιστη Ταχύτητα Σάρωσης	50 MHz
Ανάλυση D/A	20-bit
Υποστηριζόμενα Μεγέθη Πεδίου Εγγραφής	10 um~500 um
Υποστήριξη Κλείστρου Δέσμης	5VTTL
Ελάχιστη Αύξηση Χρόνου Παραμονής	10ns
Υποστηριζόμενες Μορφές Αρχείων	GDSIl, DXF, BMP, κ.λπ.
Μέτρηση Ρεύματος Δέσμης με Κύπελλο Faraday	Περιλαμβάνεται
Διόρθωση Φαινομένου Εγγύτητας	Προαιρετικό
Στάδιο με Οπτικό Παρεμβολόμετρο Λέιζερ	Προαιρετικό
Λειτουργίες Σάρωσης	Διαδοχική (τύπου Ζ), Σερπεντίνης (τύπου S), Σπειροειδής και άλλες λειτουργίες διανυσματικής σάρωσης
Λειτουργίες Έκθεσης	Υποστηρίζει βαθμονόμηση πεδίου, συρραφή πεδίου, επικάλυψη και αυτόματη έκθεση πολλαπλών επιπέδων
Υποστήριξη Εξωτερικού Καναλιού	υποστηρίζει σάρωση δέσμης ηλεκτρονίων, κίνηση σταδίου, έλεγχο κλείστρου δέσμης και ανίχνευση δευτερογενών ηλεκτρονίων

Στάδιο με Οπτικό Παρεμβολόμετρο Λέιζερ

Στάδιο με Οπτικό Παρεμβολόμετρο Λέιζερ: Ένα προηγμένο στάδιο με οπτικό παρεμβολόμετρο λέιζερ που πληροί τις απαιτήσεις για συρραφή και επικάλυψη μεγάλης διαδρομής και υψηλής ακρίβειας

Πυροβόλο Εκπομπής Πεδίου

Ένα πυροβόλο εκπομπής πεδίου υψηλής ανάλυσης είναι μια σημαντική εγγύηση για την ποιότητα της λιθογραφίας

Γεννήτρια Γραφικών

Επιτυγχάνει εξαιρετικά-υψηλή ανάλυσησχεδίαση μοτίβων, διασφαλίζοντας ταυτόχρονα σάρωση εξαιρετικά υψηλής ταχύτητας

A63.7010 VS Raith 150 Two
Μοντέλο Συσκευής	OPTO-EDU A63.7010 (Κίνα)	Raith 150 Two (Γερμανία)
Τάση Επιτάχυνσης (kV)	30	30
Ελάχιστη Διάμετρος Σημείου Δέσμης (nm)	2	1.6
Μέγεθος Σταδίου (ίντσες)	4	4
Ελάχιστο Πλάτος Γραμμής (nm)	10	8
Ακρίβεια Συρραφής (nm)	50(35nm)	35
Ακρίβεια Επικάλυψης (nm)	50(35nm)	35